Polarizační filtr CPL NANO-X

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 43 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKY

• Velmi nízký koeficient odrazu 0,1%, eliminuje 99,9% polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového povrstvení efektivně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
• Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm silný)
• Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitiny
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů.

MODEL : KF01.2471 / 43 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní a profesionální polarizační CPL filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má až několik desítek nano-povlaků nanesených vrstveně na optické šlo.

Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.

Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.

CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.

Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména u fotografování oblohy, která stává tmavší, při zachování bílé barvy mraků.

CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).

Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky tomu je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nano-povlaky pro výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také pokryt povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 43 mm.

Filtr je vhodný m.in pro následující fotoaparáty:

Kánon

• EF-M 22MM 2.0 STM
• RF 50mm F1.8 STM
• EF-M 32 mm f/1,4 STM
• EF-M 28mm f/3.5 Macro STM

Fujifilm

• XF 35 mm f/2.0 R WR

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• Oboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) optické sklo
• Ochranný hydrofobní, protiolejový, protiprachový, proti nečistotám, odolný proti poškrábání.
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
• Žádný negativní vliv na provoz systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr má povlaky, které rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal proti poškrábání, poškození a pro snadnou přepravu filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.

Kód výrobku (SB kód): SB8641