K&F Concept Polarizační filtr CPL K&F CONCEPT NANO-X Ultra-Low Reflection 67mm 67mm
Popis
Polarizační filtr CPL NANO-X
Ultra-nízký odraz
Velikost filtru: 67 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENÝ PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY
- Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie titanového pokovování účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
- Super nízký profil typu SLIM (tloušťka pouhých 5.3 mm)
- Velmi pevné a odolné tělo z hliníkové slitiny hořčíku
- Včetně pevného obalu pro uložení filtru
Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů.
MODEL : KF01.2478 / 67 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection
Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální polarizační CPL filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.
Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.
Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářské fotografie.
Polarizační filtr zvyšuje kontrast snímků a sytost barev.
Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i kovových povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.
Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. Filtr tak částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která stává tmavší, a zároveň zachovává bílou barvu mraků.
CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zelené rostliny) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. tabulku vody nebo skla).
Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
- Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
- Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
- Vynikající hodnota za peníze.
Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 67mm.
Filtr je vhodný pro fotoaparáty m.in, které mají následující modely objektivů:
Kánon:
- Objektiv EF-S 17–85 mm f/4–5,6 USM
- EF-S 18–135mm f/3.5–5.6
- EF-S 18–135 mm f/3,5–5,6 STM
- EF 35mm f/2 USM
- EF 100mm f/2.8L Macro USM
- EF 70–200 mm f/4L USM
- Objektiv EF 70–200 mm f/4L USM
- EF 70–300mm f/4–5.6L USM
Nikon:
- 16–85 mm f/3,5–5,6G ED VR AF-S DX NIKKOR
- 18–70 mm f3,5–4,5G ED-IF AF-S DX Zoom NIKKOR
- AF-S DX NIKKOR 18–105 mm f/3,5–5,6G ED VR
- 18?135 mm f/3,5?5,6 ED-IF AF-S DX NIKKOR
- AF-S DX NIKKOR 18–105 mm f/3,5–5,6G ED VR
- AF-S NIKKOR 28 mm f/1,8G
- AF-S NIKKOR 35 mm f/1,4G
- AF-S NIKKOR 85 mm f/1,8G
- AF-S NIKKOR 70–200mm f/4G ED VR
- 70–300 mm f/4,5–5,6G AF-S VR NIKKOR
Sony:
- SAL-2875
- SEL-P18200
- SEL-18200
- SEL-18200LE
Tamron:
- AF 17–50mm F/2.8 XR Di II LD asférický
- AF 28–75mm F/2.8 XR Di LD Asférický [IF] Makro
- AF 28–300mm F/3.5–6.3 XR Di VC LD Asférický [IF] Makro
Panasonic:
- LEICA D VARIO-ELMAR 14–50mm / F3,8–5,6 ASPH. / MEGA O.I.S.
- Lumix G VARIO 100–300mm F4.0–5.6 MEGA OIS
Olympus:
- ZUIKO DIGITAL 14–54mm 1:2,8–3,5 II
- ZUIKO DIGITAL ED 50–200mm 1:2.8–3.5 SWD
Sigma:
- 18–50 F2.8–4.5 DC V HSM
- 35 F1.4 DG HSM
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
- Oboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) optické sklo
- Ochranný hydrofobní, proti oleji, proti prachu, proti znečištění, odolný proti poškrábání.
- Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
- Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
- Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
- Včetně robustního ochranného boxu na filtr
- Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot
- Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
Včetně:
- 1× filtr
- 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru
Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X
POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.
Produkt z výroby nový, v originálním balení.
Kód zboží (SBkod): SB8557