K&F Concept UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 49 mm 49 mm
Popis
UV ultrafialový filtr NANO-X MRC
Ultra-nízký odraz
Velikost filtru: 49 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENÝ PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY
- Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie titanového lakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné zežloutnutí obrazu
- Filtr zabraňuje oslnění a zvýraznění a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm silný)
- Prsten z galvanicky černěného hliníku
- Včetně pevného obalu pro uložení filtru
Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů
MODEL : KF01.2460 / 49 mm NANO X UV Ultra Low Reflection
Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.
Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.
UV filtr – UV filtr absorbuje ultrafialové záření, čímž odřízne záření, které v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vytváří efekt mlhy.
UV filtr NANO-X MRC nejenže vylepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylů, mastnoty, prachem a mechanickým poškozením.
Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
- Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
- Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
- Vynikající hodnota za peníze.
UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 49 mm.
Filtr je určen mj. pro následující přístroje:
fotoaparátů Sony:
- NEX-3
- NEX-3C
- NEX-3N
- NEX-5
- NEX-5C
- NEX-5N
- NEX-5R
- NEX-5T
- NEX-6
- NEX-7
- NEX-C3
- NEX-F3
- NEX-VG10
- A3000
- A3500
- A5000
- A5100
- A6000
- A6100
- A6300
- A6400
- A6500
- A6600
s objektivy E 3.5–5.6/18–55 OSS nebo E 2.8/16
Konica Minolta A1 / A2 / A200
Objektivy
Sony
- SEL-35F18
- SAL-28F28
- SEL-24F18Z
- SEL-16F28
- SEL-20F28
- SAL-30M28
- SEL-55210
- SEL-1855
- SAL-50F18
- SEL-50F18
- SEL-30M35
Pentax
- Objektiv SMC Pentax-DA 50–200mm F4–5.6 ED WR
- SMC Pentax-D FA 50mm F2,8 Makro
- SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Makro
- Objektiv SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Macro WR
- SMC Pentax-DA 15mm F4 ED AL Limited
- Objektiv SMC Pentax-DA 35mm F2.4 AL
- SMC Pentax-DA 35mm F2.8 Limited Macro
- SMC Pentax-DA 70mm F2.4 Limited
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
- NANO-X MRC – Nano-reflexní a ochranné vrstvy
- Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
- Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 3,3 mm
- Titanový povlak
- Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
- Včetně robustního ochranného boxu na filtr
- Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
- Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot
Včetně:
- 1× filtr
- 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru
Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC
POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.
Produkt z výroby nový, v originálním balení.
Kód zboží (SBkod): SB8550