K&F Concept Polarizační filtr CPL K&F NANO-X MRC 43 mm / KF01.990
HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
NANO-X PRO MRC – Antireflexní a ochranné nano-povlaky
Super nízký SLIM profil (tloušťka pouze Celý popis
Popis
Polarizační filtr CPL NANO-X PRO MRC
Velikost filtru: 43 mm
TOP KVALITNÍ FILTR
VĚNOVANO PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY
- HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- NANO-X PRO MRC – Antireflexní a ochranné nano-povlaky
- Super nízký SLIM profil (tloušťka pouze 5 mm)
- Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníku Magnalium
- Dodáváno s pevným pouzdrem pro uložení filtru
MODEL: KF01.990 / 43mm Nano X CPL
Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů.
K&F CONCEPT představuje vynikající kvalitu profesionálních polarizačních filtrů CPL . Jedná se o filtry na horní polici, jen málo filtrů se jim vyrovná kvalitou a propracovaností.
Filtr má několik nano povlaků navrstvených na optickém skle.
Polarizační filtr je perfektním doplňkem zejména pro krajinářské fotografie.
Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.
CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen od skleněných, ale i kovových povrchů. Díky tomu je možné pořizovat například fotografie přes sklo.
Polarizační filtr CPL propouští pouze lineárně polarizované světlo ve zvoleném směru. Díky tomu filtr částečně pohltí světlo rozptýlené v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší, a přitom zachovává bílou barvu mraků.
CPL filtr také umožňuje výrazně zlepšit sytost barev neprůhledných povrchů (např. zelené rostliny) a snížit odrazy od průhledných povrchů (např. voda nebo sklo).
Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:
- Vyrobeno z nejkvalitnějšího optického skla, díky kterému je propustnost světla mnohem vyšší a činí přes 99,9 %
- Filtr má speciální nanovrstvy, které výrazně snižují odlesky a vylepšují vaše fotografie.
- Filtr je také pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtru a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších typů nečistot.
- Skvělá hodnota za peníze.
Filtr CPL NANO-X PRO MRC je určen pro všechny fotoaparáty a videokamery s průměrem objektivu 43 mm.
Canon
- EF-M 22MM 2.0 STM
- RF 50mm F1.8 STM
- EF-M 32 mm f/1.4 STM
- EF-M 28mm f/3.5 Macro IS STM
Fujifilm
- XF 35 mm f/2.0 R WR
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla
- Oboustranné 18vrstvé optické sklo s povlakem (NANO-X PRO MRC).
- Ochranný povlak hydrofobní, proti oleji, proti prachu, proti nečistotám, proti poškrábání.
- Nemění barvu rámu – je zcela neutrální
- Super tenký a lehký, hliníkový SLIM rám o tloušťce pouhých 5 mm
- Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníku Magnalium
- Žádný negativní dopad na provoz systému AUTOFOCUS
- Včetně pevného ochranného boxu na filtr
Super tenký a lehký, hliníkový SLIM rám o tloušťce pouhých 5 mm
Filtr je pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození. Poskytují vynikající ochranu filtru i v těch nejtěžších podmínkách
Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších typů nečistot
Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC
Pozornost! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství zobrazené na fotografiích jsou pouze orientační a nejsou na prodej.
Kód zboží (SBkod): SB7460